產(chǎn)品類型：

VGT-6048F

清洗方法： 

    十全十美的事物不在話下；百分之百的機(jī)會也不在一時之間；而是勇于抓取其中之一的機(jī)會，哪怕是0.99％的機(jī)遇。所以，硅片超聲波清洗機(jī)主要抓取了本身僅存在的優(yōu)勢：“物理清洗和化學(xué)清洗”。 

 物理清洗分為三種： 

①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數(shù)粘在片子上的薄膜。 

②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達(dá)幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產(chǎn)生劃痕和損傷。但高壓噴射會產(chǎn)生靜電作用，靠調(diào)節(jié)噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。 ③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于 1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。 

 化學(xué)清洗：是為了除去原子、離子不可見的污染,方法較多,有溶劑萃取、酸洗（硫酸、硝酸、王水、各種混合酸等）和等離子體法等。其中雙氧水體系清洗方法效果好，環(huán)境污染小。一般方法是將硅片先用成分比為H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的強(qiáng)氧化性,將有機(jī)物分解而除去；用超純水沖洗后,再用成分比為H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的堿性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的絡(luò)合作用，許多金屬離子形成穩(wěn)定的可溶性絡(luò)合物而溶于水；然后使用成分比為H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和鹽酸的溶解，以及氯離子的絡(luò)合性，許多金屬生成溶于水的絡(luò)離子，從而達(dá)到清洗的目的。

適用范圍： 

 威固特硅片超聲波清洗機(jī)主要適用于硅片、精密元器件、電子真空器件等等。

 技術(shù)參數(shù)： 

超聲波功率：2400W

超聲波頻率：28,40,60KHZ 

換能器數(shù)量：48PCS 

電源電壓：單相22VAC，三相380VAC