金屬在蝕刻液中的蝕刻過程，首先是在金屬零件表面發(fā)生晶粒的溶解作用;其次在晶界上也發(fā)生溶解作用，一般來講，晶界是以不同于晶粒的溶解速度發(fā)生溶解作用的。

    在大多數金屬和合金的多晶體結構中，各個晶體幾乎都能采取原子晶格的任何取向。

而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及雜質都會和周圍的母體金屬形成微觀或超微觀原電池。所以，對于金屬在蝕刻液中來講，一方面這些原電池的存在，使金屬表面存在著電位差，電位正的地方得到暫時的保護，電位負的地方被優(yōu)先蝕刻。另一方面在零件表面具有變化著的原子間距，而且原子間距較寬的地方溶解速度迅速，一直到顯示出不平整的表面為止。然后，溶解作用將以幾乎是恒定的速度切削緊密堆積的原子層，表面的幾何形狀

也隨著晶粒的溶解而繼續(xù)不斷地變化。晶界上的蝕刻也將進一步影響零件表面。在晶界上晶格的畸變和富集的雜質，常常導致更加快速的蝕刻作用，從而可能會使整個晶粒受到凹坑狀的蝕刻。晶粒尺寸越小，經蝕刻后的表面粗糙度就越低，這也可以從實際生產中得到證實。在生產中往往都是材料越均勻致密其表面越平滑。

 下面以Fe在稀HC1中的蝕刻為例來說明。將鐵片浸人除氧的稀HCI中，可以觀察

到Fe與HCI之間發(fā)生激烈的化學反應，其反應式為:.‘、

                        Fe+2HC1==    FeC12+H2 T                 (4一6)

    隨著反應的不斷進行，鐵片被腐蝕溶解，同時在鐵片表面有大量氫氣泡生成，按照電化學腐蝕理論，可將上述反應分解為兩個不同的電極反應:

  陽極反應:Fe -Fe’* +2e:.(4-7)

  陰極反應::2H’ +2e-+H2t’.(4一8)

 

    由于鐵片表面存在電化學不均勻性，其表面布滿了無數微陽極和微陰極，在稀HCI中就構成大量的微觀或亞微觀腐蝕電池。尤其是亞微觀腐蝕電池的陰、陽極十分微小，在顯微鏡下也難以區(qū)分。單個電池的有效作用區(qū)域很小，陰、陽極之間幾乎不存在歐姆壓降，整個金屬表面可以認為是等電勢的。這些微陰極與微陽極的位置在蝕刻過程中不斷地變換，導致金屬以某一平均速度發(fā)生均勻蝕刻。因此，在發(fā)生這種均勻蝕刻的電化學腐蝕時，整個鐵片表面可有條件地看做同時工作著的陽極和陰極。這種電化學蝕刻，在這里可以根據加工需要創(chuàng)造一些條件，使蝕刻按照設計的要求進行。如果是要進行紋理蝕刻，就得使這種微觀局部蝕刻現(xiàn)象加強。比如控制合適的酸度或堿度，并添加一些旨在改變蝕刻行為的第二物質，使被蝕刻的表面呈現(xiàn)出所需要的粗糙化表面效果。如果是進行化學銑切加工，同樣要創(chuàng)造條件，增強蝕刻液的金屬蝕刻能力，使蝕刻更趨于均勻化，以得到表面平滑光潔的效果。