無機廢水：調節池+中和反應；含氟廢水及拋光廢水：調節池+中和反應+混凝沉淀，有機廢水：外運處理。半導體含氟廢水及拋光廢水處理技術

節能型功率電子器件用拋光片產業化項目F-25廢水處理站
工程地點
津華苑產業區（環外）海泰東路12號
工作范圍
總承包（不包括土建施工）
項目起始時間
2008年11月
廢水性質
電子廢水
工程規模
無機廢水480m3/d，含氟廢水120m3/d，拋光廢水360m3/d，有機廢水50m3/d。
設計水質
無機廢水SS =400mg/L ，pH=1-11；含氟廢水F =1000-3000mg/L，SS=1000mg/L ，pH=2；    拋光廢水SS =3000mg/L ，pH=2-10；有機廢水COD =5000-10000mg/L ，pH=2-11。
設計出水水質及用途
出水必須達到《天津市污水綜合排放標準》三級標準開發區（CODcr =500mg/L；F=20 mg/L，SS=500mg/L）。
主要工藝
無機廢水：調節池+中和反應；含氟廢水及拋光廢水：調節池+中和反應+混凝沉淀，有機廢水：外運處理。
工程特點
本工藝處理的廢水有無機機廢水，含氟廢水、拋光廢水和有機廢水。無機廢水廢水的pH值超標，故為了減少投資和節約成本，僅通過調節廢水的pH后直接排放；含氟廢水和拋光廢水的區別主要為，含氟廢水中含有F離子，而其他指標和拋光廢水接近，考慮此情況，故對含氟廢水先進行加氯化鈣藥劑去除F離子，然后和拋光廢水混合一起進行混凝沉淀處理；有機廢水由于COD值很高，并且難生化處理，考慮到廢水量較小，故將有機廢水收集后直接外運處理。