產(chǎn)品介紹
立2011年新推出了SU9000超高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,達(dá)到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng),不僅分辨率性能明顯提升,而且作為一款冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作,可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。
特點(diǎn):
1. 新型電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)達(dá)到掃描電鏡世界最高分辨率:二次電子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。
2. Hitachi專利設(shè)計(jì)的E×B系統(tǒng),可以自由控制SE和BSE檢測(cè)信號(hào)。
3. 全新真空技術(shù)設(shè)計(jì)使得SU9000冷場(chǎng)發(fā)射電子束具有超穩(wěn)定和高亮度特點(diǎn)。
4. 全新物鏡設(shè)計(jì)顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。
5. STEM的明場(chǎng)像能夠調(diào)整信號(hào)檢測(cè)角度,明場(chǎng)像、暗場(chǎng)像和二次電子圖像可以同時(shí)顯示并拍攝照片。
6. 與FIB兼容的側(cè)插樣品桿提高更換樣品效率和高倍率圖像觀察效率。
項(xiàng)目
|
技術(shù)指標(biāo)
|
二次電子分辨率
|
0.4nm (加速電壓30kV,放大倍率80萬(wàn)倍)
|
1.2nm (加速電壓1kV,放大倍率25萬(wàn)倍)
|
STEM分辨率
|
0.34nm(加速電壓30kV,晶格象)
|
觀測(cè)倍率
|
底片輸出
|
顯示器輸出
|
LM模式
|
80~10,000x
|
220~25,000x
|
HM模式
|
800~3,000,000x
|
2,200~8,000,000x
|
樣品臺(tái)
|
側(cè)插式樣品桿
|
樣品移動(dòng)行程
|
X
|
±4.0mm
|
Y
|
±2.0mm
|
Z
|
±0.3mm
|
T
|
±40度
|
標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)
|
平面樣品臺(tái):5.0mm×9.5mm×3.5mmH
|
截面樣品臺(tái):2.0mm×6.0mm×5.0mmH
|
專用樣品臺(tái)
|
截面樣品臺(tái):2.0mm×12.0mm×6.0mmH
|
雙傾截面樣品臺(tái):0.8mm×8.5mm×3.5mmH
|
信號(hào)檢測(cè)器
|
二次電子探測(cè)器
|
TOP 探測(cè)器(選配)
|
BF/DF 雙STEM探測(cè)器(選配)
|