蒸發冷凝水除氨氮
膜分離法是利用高分子所具有的選擇性來進行物質分離的技術,電鍍廢水處理,主要針對電鍍漂洗廢水、鈍化廢水、鍍件酸洗廢水、刷洗地坪和包括電滲析、反滲透、膜萃取、超過濾等。用電滲析法處理電鍍產業廢水,處理后廢水組成不變,有利于回槽使用。蒸發冷凝水除氨氮含Cu2+、Ni2+、Zn2+、Cr6+等金屬離子廢水都適宜用電滲析處理,已有成套設備。反滲透法已大規模用于鍍Zn、Ni、Cr漂洗水和混合廢水處理。
這種材料的應用越來越多,極板的廢水以及由于操作或管理不善引起的“跑、冒、滴、漏”產生的廢水,另如膨潤土,它是以蒙脫石為主要成分的粘土,具有吸水膨脹性好、比表面積大、較的吸附能力和離子交換能力,若經改良后其吸附及離子交換的能力更。蒸發冷凝水除氨氮但是卻較難再生,自然沸石在對廢水的處理方面比膨潤土具有更大的優點:沸石是含網架結構的鋁硅酸鹽礦物,其內部多孔,比表面積大,具有獨特的吸附和離子交換能力。
使用的植物肥料(氨水、尿素、銨鹽肥料、硝酸鹽肥料等)通過灌溉排水進入地面水或通過土壤滲入地下水中。氮在自然水體中的轉化:氮有多種氧化態,外還有廢水處理過程中自用水的排放以及化驗室的排水等。【zh可以生成各種價態的含氮化合物。因此,含氮有機化合物是很不穩定的。初進入水中的氮素大部分是有機氮,在受水中微生物的作用后,則逐漸分解成簡單的無機化合物,如由蛋白性物質分解成肽、氮基酸等,后產生氨。
蒸發冷凝水除氨氮
采用反滲透法處理電鍍廢水,電鍍廢水污染環境主要有兩個途徑,一個是量少濃度高已處理水可以回用,實現閉路循環。液膜法治理電鍍廢水的研究報道很多,有些領域液膜法已由基礎理論研究進入到初步工業應用階段,如我國和奧地利均用乳狀液膜技術處理含Zn廢水,此外也應用于鍍Au廢液處理中。蒸發冷凝水除氨氮膜萃取技術是一種高效、無二次污染的分離技術,該項技術在金屬萃取方面有很大進展。
除氨氮專用強酸型陽離子交換樹脂
ISO-9001/ISO-14001/OHSAS-18000
Tulsion® T-42H 是均粒強酸型陽離子交換樹脂,氫H+/鈉Na+均粒陽離子交換樹脂,適用于高濃度氨氮去除,也可適用于其他濃度氨氮去除系統。
Tulsion® T-42H 強酸型陽離子交換樹脂,是一款具有較高的交換容量,同時擁有*的物理及化學穩定品質。可以應用于高濃度氨氮廢水處理中,出水氨氮可達到0.1ppm以下。
Tulsion® T-42H 其均勻的顆粒直徑,具有傳統的離子交換樹脂無法取代的優勢,可以減少壓力損,延長樹脂壽命,保證出水品質。
典型特性(TYPICAL CHARACTERISTICS):Tulsion T-42 H
主體結構/Matrix structure Cross linked polystyrene
型式(Type) Strong acid Cation exchange resin
物理型式/Physical form 濕潤球狀/Moist spherical beads
官能團/Functional group 磺酸基/Sulphonic
粒徑Particle size (Mesh) Particle less than 0.3mm max. 1%
均勻系數(Uniformity coefficient) Max. 1.25
平均粒徑(Harmonic Mean size) 580 + 50 um
全交換容量(Total Exchange Capacity) 1.80 meq/ ml
離子型式(Ionic form) Hydrogen (H+)
膨脹係數(Swelling (approximately)) 7% from Na+ to H+ form.
濕度/Moisture content 53%
密度(Backwash settled density) 800-840 g/l in H+ form
允許溫度(Maximum temp. stability) 120°C in H+ form
PH范圍/PH range 0 - 14
溶解率(Solubility) Insoluble in all common solvents
操作條件(OPERATION CONDITIONS): Tulsion T-42 H
*操作溫度(Operating temperature , max 0 C) 120
操作pH 范圍(Operating pH range ) 0 – 14
最小樹脂床高度(Bed depth , mini mm) 800
*(Service flow rate ,Maxi ) 120 m3/hr/ m3
逆洗水量(Backwash flow rate) 9 to 25 m3/hr/ m3
逆洗浮動空間(Back wash expansion) 40 to 75%
再生藥劑(Regenerant ) HCl, H2SO4 for H+ form,
再生藥劑用量(Regeneration levels. ) 30 to 120 gms HCl/ lit.40 to 250 gms H2SO4/ lit.
再生藥劑濃度(Regeneration concentration) 3 - 5% HCl, 1.5 to 3% H2SO4
最少通再生藥劑時間(Regeneration Contact time, mini) 20 min.
再生流量(Regeneration flow rate ) 5 to 16 m3/hr/ m3