UV光解除臭也叫光催化除臭原理：主要是紫外線照射二氧化鈦，產生自由基將臭味分子分解，納米級銳鈦型二氧化鈦（TiO2），作為一種新的光催化半導體材料，特點是利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧。因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。眾所周知，臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它感激性異味有立竿見影的清除效果。有機惡嗅氣體通過本區后，凈化運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧氧化反應。

二、UV光催化設備的特點：
    1、UV光催化設備能高效去除揮發性有機物、硫化氫、氨氣等無機物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率最高可達99%以上，脫臭效果大大優于國家頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)
    2、UV光催化設備可適應于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，通過合理的模塊配置可廣泛應用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉站、污水泵房、中央空調等惡臭氣體的脫臭滅菌凈化處理。可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。
    3、UV光催化設備無任何機械裝置，無運動噪音，無需專人管理和日常維護，只需要作定期檢查維護，維護和能耗成本低，風阻極低，可節約大量排風動力能耗，達到節能的目的。
    4、UV光催化設備采用光解原理，采取了隔爆處理，消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高，設備性能安全穩定，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場合。
    5、UV光催化設備無需惡臭氣體進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質及藥劑參與處理。
    6、UV光催化設備可根據風量及氣體濃度的大小，進行靈活配置，采用抽屜式插拔安裝形式，配件統一，安裝及維護方便。備件可在線維護和更換，方便靈活。