主營:水處理設備,紫外線消毒器,水箱自潔消毒器,臭氧發生器
紫外線消毒器消除臭氧
在工業生產中,臭氧常被用于消毒和凈化水體。但是,由于臭氧有極強的氧化能力,水中剩余的臭氧如果不被去除會有可能對下一流程有所影響,因此,通常臭氧處理過的水在進入主要的工藝流程之前必須將水中剩余臭氧去除掉。254納米波長的紫外線對于破壞剩余臭氧非常有效,它可以把臭氧分解成氧氣。盡管不同的系統所需要的規模不同,但通常來講,一個典型的臭氧消除系統所需的紫外線放射量是一個傳統的滅菌消毒系統的三倍左右。
紫外線消毒器降低總有機碳量
在很多高技術和實驗室裝置中,有機物會妨礙高純度水的生產。有很多方法可以把有機物從水中清除掉,較常用的方法包括使用活性炭和反滲透。波長較短的紫外線(185納米)也可以有效地降低總有機碳量(值的一提的是這些放射器也產生254納米波長的紫外線,因此可以同時進行消毒)。波長較短的紫外線具有更多的能量,因此能夠分解有機物。紫外線氧化有機的反應過程雖然非常復雜,其主要原理是通過產生氧化能力很強的自由氫氧,將有機物氧化成水和二氧化碳。和臭氧清除系統一樣,這種降解有機碳的紫外線系統的紫外線放射量是傳統消毒系統的三到四倍。
紫外線消毒器液體糖消毒
大多數食品和飲料廠家都大量地使用液體糖。由于糖是很容易被細菌所利用的食物,因此很容易促成細菌繁殖。另外,液體糖是不透明的,所以很難進行徹底消毒。254納米波長的紫外線可以用來對液體糖產品進行消毒。為了彌補液體的黏稠度和顏色造成的能量損耗,很多紫外線發射器需要被緊緊地排列起來組成所謂的 “薄膜” 反應器。這種放射器的緊密組合可以提供所要求的非常高的紫外線放射量,從而可以對液體糖進行有效的消毒。它的紫外線的能量輸出大約是傳統消毒系統的7到10倍。
紫外線消毒器降解余氯
在市政水處理和供水系統, 加氯消毒是非常必要的。但在工業生產過程中,為了避免對產品產生不良影響,去除水中的余氯卻經常是必要的前處理。消除余氯的基本方法有活性炭床和化學處理。活性碳處理的缺點在于它需要不斷再生,而且經常遇到細菌滋生的問題。185納米和254納米波長的紫外線都被證實可以有效地破壞余氯和氯氨的化學鍵。雖然需要巨大的紫外線能量才能發揮作用,但它的優點在于此方法不需向水中添加任何藥物,不需要儲存化學物質,容易維修,而且同時還有殺菌和去除有機物的作用。
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