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山東安諾水處理科技有限公司

主營:代理進口阻垢劑、膜化學品、循環水系列藥劑

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    HEDP羥基乙叉二膦酸氨基三亞甲基膦酸ATMP阻垢緩蝕劑

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    羥基乙叉二膦酸

    羥基乙叉二膦酸HEDP),化學用品,一種有機磷酸類阻垢緩蝕劑,能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩定的絡合物,能溶解金屬表面的氧化物。

    產品特性

    HEDP是一種有機磷酸類阻垢緩蝕劑,能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩定的絡合物,能溶解金屬表面的氧化物。HEDP在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用,在高pH值下仍很穩定,不易水解,一般光熱條件下不易分解。耐酸堿性、耐氯氧化性能較其它有機磷酸(鹽)好。HEDP可與水中金屬離子,尤其是鈣離子形成六圓環螯合物,因而HEDP具較好的阻垢效果并具明顯的溶限效應,當和其它水處理劑復合使用時,表現出理想的協同效應。
    HEDP固體屬于高純產品,適用于冬季嚴寒地區;特別適用于電子行業的清洗劑和日用化學品添加劑。

    產品用途

    【用途一】是鍋爐和換熱器的阻垢劑和緩蝕劑無氰電鍍的絡合劑、皂用螯合劑、金屬和非金屬的清洗劑
    【用途二】常用作鍋爐水、循環水、油田注水處理中的阻垢緩蝕劑。常與聚羥酸類阻垢分散劑復配。還可作無氰電鍍絡合劑,漂染業的固色劑過氧化氫穩定劑
    【用途三】本品為無氰電鍍的主料。配制成無氰電鍍銅溶液,在鋼鐵上直接電鍍銅層結合力良好。鍍層光滑、色澤好。一般用量60%含量為100~120 ml/L。硫酸銅用量為15~20 g/L。另外,在電鍍前將鍍件浸在本品的1%~2%溶液中,使電鍍件轉為活化態,再進行電鍍更能提高效果。
    【用途四】該品為新型的無氯電鍍絡合劑,在循環冷卻水系統中用做水質穩定的主劑,起緩蝕阻垢作用。該品是有機多無膦酸類水片理劑之一,國內生產的這類產品還有基他一些品種,例如氨基三亞甲基膦酸ATMP):[CH2PO(OH)2]3N以及乙二胺四亞甲基磷酸(EDTMP)等等。有機多元膦酸是60年代后期開發、70年代前后被確認的一類水處理劑,這類處理劑的出現使水片理技術向前邁進了一大步。與機聚磷酸鹽相比,有機多無膦酸具有良好的化學穩定性、不易水解、能耐較高溫度和藥劑量小且兼具緩和蝕垢性能等特點。是一類陰極型緩蝕劑,又是一類非化學當量阻垢劑。和其他水處理劑復合使用時,表現出理想的協同效應。對許多金屬離子如鈣、鎂、銅、鋅等具有優異的螯合能務,甚至對這些金屬的無機鹽類如CaSO4CaCO3、MgSiO3等也有較好的去活化作用,因此大量應用于水處理技術。該品低毒,小白鼠皮下注射LD50為486.4mg/kg。
    【用途五】作阻垢劑一般使用濃度1~10mg/L,作緩蝕劑一般使用濃度10~50mg/L;作清洗劑一般使用濃度1000~2000mg/L;通常與聚羧酸型阻垢分散劑配合使用。


    【用途六】 本文在模擬工業鍋爐水質的情況下,對爐水中HEDP的測定方法進行了優化、研究了HEDP的高溫解離特性、以及對HEDP的阻垢性能和緩蝕性能進行了研究,得出了以下的一些結論。 HEDP在鍋爐爐水中做為阻垢緩蝕劑來使用,首先需要解決的是HEDP的測定問題。但HG/T3537-1999標準方法對HEDP的分析檢測繁瑣(測定時間一般需要2-3小時),而使用硝酸釷絡合滴定來檢測HEDP的方法,雖然測定步驟簡單,但硝酸釷是一種具有放射性的物質,不僅會給環境帶來很大的負擔,而且對人體也是有害的。通過改進的分光光度法對HEDP的測定進行研究,測定時間大大的降低(測定可以在20-30分鐘之內完成)。此外,探討了工業鍋爐爐水中可能存在的各種離子對測定的影響,從而確定了最佳測定條件(波長470nm,pH小于2,反應時間5分鐘,顯色時間15分鐘)。當爐水中NaCl的含量低于500mg/L;Ca2+濃度小于300mg/L;磷酸鹽含量低于20mg/L;SO42-含量在50mg/L內時均不會干擾對HEDP的檢測。通過對模擬爐水中的HEDP進行本測定方法的精密度試驗,其相對標準偏差在1%以下,該方法具有簡單、快速、靈敏、抗干擾等優點。 HEDP在爐水中的穩定性直接影響其阻垢緩蝕性能的發揮,因而研究了有氧、無氧條件以及不同pH條件下HEDP在模擬工業鍋爐爐水中的熱分解特性,在有氧的條件下,隨著溫度的升高HEDP的分解率也隨之增加,溫度140℃HEDP分解加劇,當溫度達到160℃后,HEDP幾乎完全分解,分解產物主要為磷酸鹽化合物。在無氧條件下,HEDP隨溫度升高也是分解加劇,200℃以上時HEDP會發生較大程度的分解,但相比于有氧條件下HEDP的分解規律,其能耐受的溫度較高,由此說明要使HEDP能最好的發其功效,控制爐水中氧含量有非常重要的作用。實驗在150℃條件下研究了pH值得變化對HEDP的熱分解特性的影響,實驗表明,pH值的變化對HEDP的熱分解影響不大,在高堿性條件下HEDP能穩定存在。 通過電導法和靜態阻垢實驗對HEDP的阻垢性能進行了實驗,研究表明電導法和靜態阻垢法對HEDP的阻垢性能進行評價具有一致性,隨著HEDP濃度的增加,阻垢率逐漸增加,但HEDP的阻垢效率是有一定臨界值的,增大到一定程度后阻垢率變化就不會很大。溶液中加有5-7mg/L的HEDP能達到較高的阻垢率;此外,其阻垢性能還與溶液的濃縮倍率以及pH值有較大的關系;溫度對HEDP的阻垢性能影響較大,隨著溫度的升高HEDP的阻垢性能也隨之降低。在低鈣離子濃度和HCO3-濃度條件下,HEDP對碳酸鈣垢有較好的抑制效果,高鈣離子濃度和HCO3-濃度會抑制HEDP的阻垢性能。 使用電化學交流阻抗法、Tafel極化曲線法以及高壓釜掛片實驗研究了HEDP在常溫條件下對20號碳鋼的緩蝕性能。實驗表明一定濃度的HEDP(25mg/L)能有效的抑制碳鋼的腐蝕,電化學實驗和高溫掛片實驗具有一致的結果;HEDP高壓釜掛片實驗顯示了在工業鍋爐運行的溫度范圍內,20號碳鋼在模擬爐水中的氧化速率較溶解速率小,試片表現為失重;雖然加入HEDP無法降低爐水中的Cl-濃度,但加入HEDP后能有效的抑制氯離子直接對金屬的腐蝕,從而可以容許爐水中相對較高濃度的氯離子的存在。 通過對模擬爐水中影響HEDP阻垢緩蝕性能的HEDP濃度、爐水中的侵蝕性陰離子、溫度等各種因素的試驗和分析,全面評價了HEDP的阻垢性能以及對20號碳鋼的緩蝕性能,得到了比較合適的條件參數,可以為實際生產提供參考。

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