INFICON射頻傳感器和薄膜沉積控制器

INFICON主要產品：INFICON射頻傳感器、INFICON真空計、INFICON薄膜沉積控制器。

INFICON射頻傳感器產品介紹：

INFICON射頻傳感技術能夠為半導體過程工具提供高度準確、寬頻、頻率判別式射頻測量。通過此射頻數據，可以詳細了解過程開發和生產過程問題中的實際等離子狀態，大幅降低過程變異性。此款非接觸嵌入式電纜安裝的射頻傳感器是其先進過程控制現場傳感器套件中的最新款傳感器，可以與FabGuard傳感器集成與分析系統結合使用，提供關鍵診斷信息，例如準確的腔室和過程功率與阻抗測量、故障根本原因分析（例如匹配網絡問題）、用于腔室匹配的過程“指紋”識別以及PVD、CVD和蝕刻應用的晶片計量建模。

INFICON射頻傳感器技術利用FabGuard打造了高精確的產品，可通過對基本電壓電流和諧波電壓電流進行測量與分析（包括相角測量），預測晶片計量結果，因而工程師能夠控制每個加工晶片的實際晶片計量結果。現在，FabGuard獨一無二的強大算法性能與射頻傳感技術完美結合，可以基于實時測量以及易于理解的用戶界面所提供的相關性分析，顯著提高半導過程的可重復性、穩定性和準確性。

產品功能

CVD應用

-晶片計量建模（薄膜應力、薄膜厚度）

-對過程腔室提供的真正功率進行有功功率控制

-FDC（例如等離子體不穩定性、充電）

-腔室匹配（射頻指紋）

PVD應用

-晶片計量建模（電阻率）

-FDC

-腔室匹配（射頻指紋）

蝕刻應用

-晶片計量建模（蝕刻速率）

-對過程腔室提供的真正功率進行有功功率控制

-FDC

-腔室匹配（射頻指紋）。

INFICON薄膜沉積控制器Cygnus2產品介紹：

Cygnus2薄膜沉積控制器在INFICON薄膜沉積控制器可靠成熟的性能基礎上，增添了更多獨特的功能，可幫助您實現OLED過程的最大價值。Cygnus2使用INFICONModeLock頻率測量系統，提供穩定、高分辨率的速率和厚度測量，速率分辨率可達每1/10秒0.00433?/s，是行業中的佼佼者。Cygnus2具有其他石英晶體控制器無法比擬的性能、品質和功能，賦予您的過程卓越的可重復性。

產品功能：

INFICONModeLock技術確保獲得最高、最穩定的速率和厚度測量分辨率，即使在速率極低的情況下

AutoZ技術通過自動測定沉積材料的Z比值，可提高厚度測量的精度

一個Cygnus2即可同時、單獨或以任何組合方式控制最多6個來源，無需使用兩個或三個控制器

彩色TFTLCD顯示屏使用戶很容易看到過程的進展狀況

10Hz測量

100ms樣本速率下頻率范圍為+/-0.0035Hz

USB數據存儲功能可存儲屏幕截圖、配方存儲和數據記錄

多個源厚度合計功能

測量低密度、低速率材料的平均速率（使用穩定源的低速率OLED摻雜材料沉積最多30秒）

速率顯示分辨率可達0.001?

4米XIU選件能夠在大型系統中使用較長的真空傳感器電纜

無沉積控制允許持續控制源，因為基片可以通過沉積室不斷循環

6個標準DAC輸出和另外6個可選輸出用于來源控制、速率或厚度監控

可選以太網通信

符合RoHS標準。

INFICON真空計產品特點：

測量范圍從5×10-10mbar到2.7×10-2mbar（3.75×10-10Torr到5×10-2Torr）

出色的可重復性，在10-8…10-2mbar工藝壓力范圍內為5%

過壓檢測保護，防止燈絲燒毀

兩根長壽命氧化銥燈絲

發射電流選擇，降低控制的繁瑣

植入校準數據的傳感器元件可確保規管的高精準性，并且易于更換

符合RoHS。