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油脂和水對多晶硅的產品有巨大影響。因此在多晶硅設備的清洗中，以脫脂工藝和干燥工藝為要點。主要清洗還原爐、氫化爐、CDI設備、合成車間、還原氫化車間、精餾系統、中間罐、管道等主要設備。并且為了保證脫脂和干燥的質量，多晶硅設備清洗需要對單臺設備進行單臺清洗并驗收后，再進行安裝。

　　1、油脂：在多晶硅生產過程中，油分子對多晶硅的危害十分嚴重。實際證明，整個工藝系統幾PPM的油含量就可能造成多晶硅反應速度減慢，產量降低，甚至硅反應停止。因此，多晶硅設備的脫脂工藝尤為重要。蘇州太陽能硅片回收廠家

　　2、水分：水中含有大量的氯離子，氯離子對多晶硅的反應十分敏感。設備及系統干燥工藝很關鍵。蘇州半導體硅片回收廠家

　　3、氯離子殘留：水和其他溶液在設備表面殘留的氯離子對多晶硅影響十分大。因此，在清洗后對設備進行純水沖洗工藝十分重要。半導體硅片回收廠家

4、氧化物、灰塵其他雜質：其他污垢的存在，對多晶硅的生產影響也很大。因此，在設備清洗過程中，采用酸洗工藝對其他污垢進行清洗十分必要。